产品名称：真空气氛实验炉（定制）  半导体材料退火炉   厂家供高等院校实验炉 

一、概述

真空气氛炉，主要以抽完真空后通入保护气氛进行高温处理的设备，以抽真空形式快速把炉内空气置换，以减少炉内氧含量，并节省保护气。本炉主要适用于小批量生产，利用人工把产品放入炉腔内烧结之用，具有使用灵活性高等优点。

二、主要参数

型号：BXZQ-18-13

额定功率：≈18KW

电压：380V

额定温度：1300℃

使用温度：≤1200℃

升温速率：0~15/min

控制精度：±1℃

真空泵：旋片式真空泵

炉口密封：0型硅橡胶密封

加热温区：1个温度区域

温区控制：单独控制温度

加热元件：硅碳棒

加热方式：采用上下加热减少炉内的温度偏差

三、水、气系统

水冷系统：炉囗处设置进水出水接口,并单独设有冷凝水排放口,以定期排放物料、气体产生的冷凝水、结构水。

进出气路：炉尾设置进气,进气管利用炉温预热,以减少进气对炉内进出气路温度的影响。

气体置换：配有机械式真空泵以便客户置换气体时使用。

进气控制：气路上设有压力表、气体流量计,阀门、等以便控制与查看气体的使用情况,并设有抽真空接口。

注：真空气氛实验炉（定制）  半导体材料退火炉   厂家供高等院校实验炉 ，更多型号及规格可以根据您的需求定制。欢迎电话：吴经理 18888033558 / 0510-87195028