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气氛炉,可应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺,也用于冶金、机械、轻工、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷产品的预烧、烧结、钎焊等工艺。
管式炉,可以分为单温区管式炉,多温区管式炉,转动管式炉,立式管式炉等,分类是比较多的。其中多温区管式炉有多个加热区,用双层壳体结构和宇电控温仪表,每个加热区能进行30段程序控温,多个温区可以独立控制,设置不同的温度,操作简单;单温区管式炉是采用硅碳棒、硅钼棒等材料为加热元件,温度可以达1700摄氏度。使用的过程当中,不能够使得其受到外界的撞击发生振动,主要原因是加热棒在高温的情况下易断。管式炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快等优点。
气氛箱式炉,可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体,并可以用真空泵预抽真空排除炉膛内气体,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。目前主要有三种温度范围的箱式气氛炉,1100摄氏度,1300摄氏度和1600摄氏度。
其实气氛炉和管式炉两者的性能是一样的,都是先抽真空后通气氛,只是烧制的物料有区别,管式电炉通常会烧小型的物料,比如小颗粒矿石、玻璃粉、陶瓷粉之类的小物料。
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